登録番号 | 15004 |
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受理年月 | 2021/04 |
著者名 |
かんとうがくいんだいがくざいりょう・ひょうめんこうがくけんきゅうしょ 関東学院大学材料・表面工学研究所 |
書名・巻次 | 技術大全シリーズ ドライプロセス表面処理大全 |
出版社名 |
にっかんこうぎょうしんぶんしゃ 日刊工業新聞社 |
概 略 | ドライプロセスは真空や大気圧下で金属、無機化合物、有機化合物などの薄膜を形成する表面処理方法であり、エレクトロニクスや機械分野だけでなく、医療や食品分野まで広く活用が期待されている。本書では、真空技術や基板前処理などの基礎からPVD、CVD、エッチングなどの原理を解説し応用例を紹介する。 |
出版年月 | 2019/03 |
版 型 | 21 |
頁 数 | 285ページ |
価 格 | 3,000円 |
分類番号 | 566.7 |
保管場所 | H |
ISBN | 978-4-526-07968-9 |
備 考 | 購入 |
貸出状況 |