Tosyo Database

登録番号 15004
受理年月 2021/04
著者名 かんとうがくいんだいがくざいりょう・ひょうめんこうがくけんきゅうしょ
関東学院大学材料・表面工学研究所
書名・巻次 技術大全シリーズ ドライプロセス表面処理大全
出版社名 にっかんこうぎょうしんぶんしゃ
日刊工業新聞社
概 略 ドライプロセスは真空や大気圧下で金属、無機化合物、有機化合物などの薄膜を形成する表面処理方法であり、エレクトロニクスや機械分野だけでなく、医療や食品分野まで広く活用が期待されている。本書では、真空技術や基板前処理などの基礎からPVD、CVD、エッチングなどの原理を解説し応用例を紹介する。
出版年月 2019/03
版 型 21
頁 数 285ページ
価 格 3,000円
分類番号 566.7
保管場所 H
ISBN 978-4-526-07968-9
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タイトル 技術大全シリーズ ドライプロセス表面処理大全
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